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ナノスケール欠陥抑止効果を初めて確認（大阪大学産業科学研究所プレスリリース）
プレスリリース内容

微細化ゆえの「先端半導体」に起こる問題の解決へ。新めっき技術によるナノスケール欠陥抑制効果を初めて確認 ―先端半導体の信頼性向上への貢献を期待―